紫外光刻机强力助攻微纳器件制备

　　紫外光刻机新一代紫外光源：172nm，具有同类产品良好的输出强度，3%的可用孔径，弧光灯使用寿命更长。暴露高达30000次，瞬间启动，无需超净室，内置净化系统可使系统在大气环境中工作，无需主动冷却和外部冷却，无有毒气体和汞等物质。高光能转换率（EVU仅为0.02%），节能；传统的UV处理会存在以上问题。光刻操作可以在几分钟内完成，维护简单，几乎不需要培训。

　　

　　1、微米级高分辨率投影光刻。

　　

　　2、实现无遮罩任意图案书写，所见即所得，即时。

　　

　　3、200mm行程拼接，100nm拼接精度。

　　

　　4、视觉引导光斑，支持雕刻。

　　

　　5、全自动操作，图形缩放、旋转、定位、扫描、拼接均由软件完成。

　　

　　紫外光刻机紫外投影光刻技术将特定形状的光斑投射到涂在器件表面的光刻胶上。光刻胶的照射区域会产生化学变化。曝光显影后，可形成微米级精密图案；通过进一步的蚀刻或蒸发，可以在样品表面形成所需的结构。UV投影光刻作为材料、器件、微结构和微器件的常用制备技术，广泛应用于微纳米结构制备、半导体器件电极制备、太赫兹/毫米波器件制备、光学掩模制备、PCB制造等应用。

　　

　　传统的UV投影光刻机需要先制作掩模版，耗材成本高，制备周期长，难以满足材料和器件实验室对灵活性和实验进度的要求。近年来开发的紫外光刻机技术突破了这一技术限制，实现了任意形状编程和全自动高精度大面积拼接的无掩模光刻，随时将您的设计转化为实际的成品，大大减少了开发和测试周期，强有力的助攻微纳器件制备的“临门一脚”。