紫外光刻机的高性价比令人印象深刻

　　光刻是一种使用曝光将设计的掩模图案转移到基板上的工艺。紫外光刻机是专为实验室研发和小批量生产而设计的高分辨率光刻系统。光刻机提供良好的基板适应性，可夹持标准尺寸基板的最大直径为150mm。该设备提供多种曝光方式，包括真空、软接触、硬接触、最近邻等，可实现键合对准、纳米压纹、微接触密封等多种功能。

　　双面对位的整体设计技术采用CCD图像底部对位技术和单曝光头正面曝光实现。采用新型高精度、多自由度光罩样品精密对准工作台结构设计，光罩样品对准过程直观，雕刻对准速度快，精度高。掩膜板和样品的放置采用推拉式参考板和真空吸附，操作方便。该装置可用于用紫外光照射正胶或负胶，通过显影可对样品进行精细图案化。

　　紫外光刻机广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米技术。而且，该系列光刻机已被多家企业、研发中心、科研院所、高校采用作为其光刻系统的基础；其过硬的技术、技术和良好的服务赢得了广大用户的青睐。

　　作为光刻系统，重要的UV曝光机技术在于以下两个方面：掩模晶圆对准和将掩模上的图案复制到晶圆上，为下一步或离子注入工艺做准备。紫外光刻机系统的曝光方式采用压力可调的接触式曝光，有效减少光刻胶对掩膜的污染和掩膜的磨损，从而提高掩膜的使用寿命。因此，曝光机/光刻系统以其高性价比令人印象深刻。